六氟乙烷（hexafluoroethane），又称全氟乙烷，是乙烷中六个氢原子全部被氟原子取代后的产物，是卤代烃（化学式：C2F6），亦是烃类化合物乙烷所对应的全氟化合物，是一种不易燃的气体，难溶于水，微溶于醇。

中文名 六氟乙烷           英文名 Hexafluoroethane
别称 全氟乙烷;R116制冷剂  化学式 C2F6
分子量 138.01             CAS登录号 76-16-4
EINECS登录号 200-939-8    熔点 -100.6℃
沸 点 -78.2℃             水溶性 0.0015%
密度 5.734 kg·m-3 (24℃) 外观 无色无臭气体
闪点 无意义（不燃）       应用 用作绝缘气、等离子蚀刻剂，高介电强度冷却剂
危险性符号 N              危险性描述 对环境有害
危险品运输编号 UN 2193 2.2

物理性质
相对密度（水=1）：1.61
相对蒸气密度（空气=1）：4.7
溶解性：难溶于水，微溶于醇类
分子结构数据：
摩尔折射率：12.22；
摩尔体积（m3/mol）：94.3；
等张比容（90.2K）：158.9；
表面张力（dyne/cm）：8.0；
偶极距（10-24cm3）：0；
极化率：4.84。

制备
由霍尔电解法生产铝的过程中产生。
以活性炭与氟为原料，在装有活性炭的反应炉中缓慢通入高浓氟气，通过控制电加热，供氟速率和冷却反应炉来控制反应温度。反应产物经过除尘、碱洗、脱水后，可获得含CF4、C2F6、C3F8的粗品，然后把粗品混合物进行间歇低温精馏，提取C2F6，再用分子筛进一步进行低温吸附脱水，可获得纯度大于99.7%的C2F6。

应用
六氟乙烷可用于一种具多功能的蚀刻技术，常见于半导体之生产。它可用于金属硅化物及金属氧化物并相对其金属基质的选择性蚀刻。叧外，它亦用于蚀刻硅上的二氧化硅。
六氟乙烷可连同三氟甲烷一起用于制冷剂R508A（六氟乙烷占61%）及R508B（六氟乙烷占54%）。